第二百九十八章 确保有一战之力(2/2)

0dsw研制出了国内第一台分步投影式光刻机。

1990年，中科院光电所研制出ioe1010g直接分步重复投影光刻机，主要技能指标靠近美国gca8000型的水平，而gca8000是美国在80年代中期开辟出来的。

以后的八五、九五、十五期间，也都有相应的研究效果问世。中国在光刻机研究方面，虽然达不到国际一流水平，但也绝对没有被外洋远远地甩开。

光刻机只是全部半导体设备中的一个例子，半导体范畴的其他技能情况也是如此。可以这样说，中国时刻都准备着迎接最严峻的挑战，任何时候都要确保自己有一战之力。